中微公司(688012)：刻蚀设备国产替代领军者 内生外延驱动稳健成长

投资要点

    中国刻蚀设备和MOCVD 设备龙头，逐步拓展薄膜沉积、Epi 设备。

    公司是国内领先的半导体刻蚀设备及MOCVD 设备制造商，逐步向薄膜沉积设备、Epi 设备延展。随着国产替代推进及公司产品力提升，公司营收利润快速增长，2022 年公司营业收入47.4 亿元，同比增长 53%，2017-2022 年CAGR 为37%；实现归母净利润 11.7 亿元，同比增长 16%，2017-2022 年CAGR 为108%。产品端，公司刻蚀设备已广泛应用于65 nm 到 5 nm 逻辑和64 层、128层3D NAND 量产线；MOCVD 设备在全球氮化镓基LED 设备占据龙头地位，二代 Mini LED 、Micro LED、功率器件设备积极研发推进；薄膜沉积设备方面，公司已推出用于钨沉积的CVD 和ALD 设备，并积极推进硅锗外延EPI 设备研发。2022 年公司新签订单63.2 亿元，同比增加53%。产品线的不断延展，推进公司市场空间持续拓展。

    自主可控驱动国产化率提升，刻蚀设备龙头引领先进制程突破。

    刻蚀设备是集成电路三大核心设备之一，2022 年全球市场220 亿美元，占总设备市场的22%。我们预计2022-2025 年中国大陆刻蚀设备市场空间平均约377 亿元/年。存储器件3D 化、逻辑芯片制程缩小，刻蚀设备需求量及要求大幅提升。

    公司在刻蚀设备领域深耕多年，CCP 设备行业领先，ICP 设备持续突破。 CCP设备方面，公司市占率不断提升，2022 年付运CCP 刻蚀设备 475 腔，同比增长59%。公司CCP 产品已覆盖28nm 及以上的绝大部分和28nm 以下的大部分刻蚀。逻辑端针对28nm 及以下大马士革刻蚀已经入验证阶段，存储端高深宽比刻蚀已在客户端验证具有刻蚀≥60:1 深宽比结构的能力。截至2023 年二季度，公司累计生产付运2500 个CCP 刻蚀反应台。ICP 设备方面，公司Primo nanova 系列产品自推出以来市场迅速扩大，截至2022 年底出货量已达到 297 台，同时ICP 设备产品种类不断丰富，分别推出VE、UE、LUX 用于高深宽比结构刻蚀和高均匀性刻蚀。

    立足优势蓝光LED 领域，发力高端LED、功率器件市场。

    MOCVD 常用于制造LED、激光器、功率器件、射频器件等，其中LED 为第一大应用。 Mini/Micro LED 产业化与功率器件市场的发展带动MOCVD 设备需求提升。公司氮化镓基LED 设备处于全球龙头地位。2021 年针对Mini LED 市场推出量产MOCVD 设备， 截至2022 年底累计出货量已超120 腔。在功率器件市场方面，公司已推出氮化镓功率器件MOCVD 设备并获得先进客户重复订单，目前碳化硅、二代氮化硅功率器件的设备积极研发中。

    内生外延协同发展，积极推进平台化布局。

    公司持续稳步推进三维发展战略，在保持刻蚀设备和MOCVD 设备竞争优势的同时，向半导体薄膜沉积、检测设备延伸，并积极扩展MEMS、功率器件、太阳能领域等泛半导体设备，探索环保及医疗健康设备等市场机会。内生方面，公司布局薄膜沉积设备领域，成功推出钨LPCVD、ALD 设备并在客户端进行量产验证，积极推进ALD 氮化钛设备和锗硅外延EPI 设备研发。外延方面，公司积极进行投资与并购，投资睿励仪器（量测设备）和拓荆科技（薄膜沉积）等，通过外延式成长途径扩大产品和市场覆盖，平台化布局不断完善。

    盈利预测与估值：我们预计2023-2025 年公司营业收入分别为63.86、79.63、102.62 亿元，同比增长34.7%、24.7%、28.9%；归母净利润分别为17.62 、18.64 、24.49 亿元，同比增长50.7%、5.79%、31.3%；对应PE 分别为46、43、33 倍，给予“买入”评级。

    风险提示

    晶圆厂扩产不及预期、设备国产化进度不及预期、外部制裁加剧风险。