中微公司(688012)：股权激励聚焦中长期发展 多产品线布局打开成长空间

事件：6 月12 日，公司以人民币50 元/股的授予价格，向1361 名激励对象授予550 万股限制性股票， 约占目前公司股本总额61819.8523 万股的0.89%。涉及的标的股票来源为公司向激励对象定向发行公司A 股普通股股票，本次授予为一次性授予，无预留权益。

    股权激励绑定核心人才，彰显长期发展信心：根据公司公告，本激励计划涉及的激励对象共计1361 人，包括公司董事、高级管理人员、核心技术人员，以及董事会认为需要激励的其他人员。公司以2022 年度的营业收入为基数，根据2023-2026 年各考核年度的营业收入累计值定比基数的年度累计营业收入增长率（X），确定各年度的业绩考核目标对应的公司层面归属比例：X≧对标企业算术平均增长率，则公司层面归属比例为100%；对标企业算术平均增长率*0.8≦X<对标企业算术平均增长率，则公司层面归属比例为80%；X<对标企业算术平均增长率*0.8，则公司层面归属比例为0。对标企业指Gartner公布的相应年度全球半导体设备厂商销售额排名前五位的公司。本次激励计划考核目标具备一定挑战性，彰显了公司对中长期业绩增长的信心，有望进一步健全公司长效激励机制，调动公司员工的积极性，有效地将股东利益、公司利益和员工个人利益结合在一起，保障公司的长远发展。

    新品研发进展顺利，持续受益半导体国产替代：根据公司2022 年年报，2022年研发投入为9.29 亿元，同比增长27.61%。公司坚持自主创新，持续保持较高的研发投入，相关设备产品研发进展顺利。分产品来看，1）刻蚀设备：

    存储器件方面，公司的刻蚀设备在3D NAND 生产线中被广泛应用，并通过了多个动态存储器的工艺验证，取得重复订单；公司目前针对逻辑器件的一体化大马士革刻蚀工艺和存储器件的极高深宽比刻蚀技术进行技术攻关，已取得良好进展。2）薄膜沉积设备：公司首台CVD 钨设备付运到关键存储客户端验证评估，将进一步开发新型号CVD 钨和ALD 钨设备以实现更高深宽比结构的材料填充；应用于高端存储和逻辑器件的ALD 氮化钛设备研发稳步推进，已进入实验室测试阶段。随着晶圆厂产能持续扩张及国产替代的加速推进，叠加公司产品结构持续优化，公司营收规模有望保持稳定增长。

    MOCVD快速起量，下游渗透率持续提升：根据公司2022 年年报，截止2022年，公司MOCVD产品累计出货量超过500 腔，持续保持国际氮化镓基MOCVD设备市场领先地位。当前，公司进一步加码MOCVD 新产品及新领域拓展，不断提升产品市场渗透率：PrismoUniMax?产品凭借其高产量、高波长均匀性、高良率等优点，受到下游客户的广泛认可，累计出货量已超过120 腔，在Mini-LED 显示外延片生产设备领域处于国际领先，公司正与更多客户合作进行设备评估，扩大市场推广；用于氮化镓功率器件生产的MOCVD 设备PrismoPD5?，目前已交付国内外领先客户进行生产验证，并取得了重复订单。同时，公司紧跟市场发展趋势，布局行业前沿，针对Micro-LED 应用的专用MOCVD 设备正在开发中。

    维持“增持”评级：公司半导体设备受益半导体供给端产能扩张，产品结构持续优化，下游渗透率提升，市场份额有望进一步提升。预计公司2023-2025年归母净利润为14.57/17.65/20.74 亿元，对应EPS 为2.36/2.86/3.35 元，对应PE 为64/53/45 倍。

    风险提示：产品研发进展不及预期；半导体行业扩张不及预期；下游渗透率不及预期；中美科技摩擦加剧