奇宝库 > 中微公司(688012):持续研发突破 已具备刻蚀≥60:1深宽比结构能力、多款新产品验证进展顺利

中微公司(688012):持续研发突破 已具备刻蚀≥60:1深宽比结构能力、多款新产品验证进展顺利

23Q2 扣非后归母净利润2.91 亿元,环比增27.74%。中微公司23H1 实现收入25.27 亿元,同比增28.13%;归母净利润10.03 亿元,同比增114.40%;扣非后归母净利润5.19 亿元,同比增17.75%。其中23H1 公司出售了部分持有的拓荆科技股份有限公司股票,产生税后净收益约4.06 亿元(非经常性收益)。单季度来看,23Q2 收入13.03 亿元,同比增27.46%,环比增6.57%;归母净利润7.28 亿元,同比增107.53%,环比增164.23%;扣非后归母净利润2.91 亿元,同比增14.46%,环比增27.74%。

    ICP 刻蚀设备不断获得批量订单。分产品来看:①、刻蚀设备,23H1 收入17.22 亿元,同比增32.53%,毛利率为46.16%。其中,在最先进的5 纳米芯片生产线及下一代更先进的生产线上,CCP 刻蚀设备实现多次批量销售,已有超过200 台反应台在生产线合格运转;ICP 刻蚀设备不断地核准更多刻蚀应用,迅速扩大市场并不断收到领先客户的批量订单。②、MOCVD 设备,23H1 收入2.99 亿元,同比增24.11%,毛利率37.90%。其中,在新一代Mini-LED 产业化中,公司在蓝绿光LED 生产线上继续保持绝对领先的位置。

    刻蚀设备、MOCVD 设备、薄膜沉积设备几大领域的新产品研发不断、进展顺利。新产品方面,①、公司自主开发的超高深宽比刻蚀机已经在客户端验证出具有刻蚀≥60:1 深宽比结构的能力;②、针对Micro-LED 应用的专用MOCVD 设备正开发中;③、用于氮化镓功率器件制造的新型MOCVD 设备正开发中;④、SiC 功率器件外延生长设备的实验室样机取得初步进展,将于2023E 年内交付样机至客户端开展生产验证;⑤、首台CVD 钨设备在关键存储客户端验证评估,目前验证进展顺利;⑥、公司开发的新型号CVD 钨和ALD 钨设备已通过关键客户实验室测试,首台量产验证机已在客户端进行测试;⑦、用于先进存储和逻辑器件的ALD 氮化钛设备也取得重大进展,预期在23H2E 发往客户端进行量产验证。

    盈利预测及估值建议。我们预计2023E-2025E 收入分别为62.12 亿元、79.99亿元、100.28 亿元,同比增31.06%、28.77%、25.37%;归母净利润(扣非前)分别为17.40 亿元、18.83 亿元、24.63 亿元,同比增48.77%、8.21%、30.80%。采用PE 估值法,结合可比公司估值水平,给予公司2023E(PE)40x-50x 估值,对应合理市值区间696.13 亿元-870.16 亿元,合理价值区间112.61 元/股-140.76 元/股,维持“中性”评级。

    风险提示。中美贸易摩擦加剧带来进一步技术封锁、下游客户建厂节奏不及预期、技术研发进度不及预期、市场开拓不及预期等。

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