科技讯 9月15日，据天眼查App显示，近日，上海创消新技术发展有限公司申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利公布。该发明不用EUV光刻机或DUV光刻机，不需要光刻过程，直接蚀刻就可以制造5纳米芯片。该公司成立于2019年3月，距今成立四年。
图源 天眼查
据悉，该公司法定代表人为刘明革，注册资本50万人民币，经营范围包括电子技术、化工技术、建筑技术、生物技术领域内的技术开发等，由刘明革和刘佳慧共同持股。
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摘要显示，该发明涉及芯片设计及制造，方案是：按5nm蚀刻线宽设计芯片版图，设计蚀刻掩模版后，用激光直写光刻机刻出蚀刻掩模版；晶圆准备好后将蚀刻掩模版紧靠晶圆上表面，用等离子体进行干法蚀刻，蚀刻结束后移去蚀刻掩模版，清洁晶圆，进行后续常规的芯片制造步骤。
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值得一提的是，此前有消息称EUV光刻机目前仅由ASML一家公司生产，使其成为全球芯片制造厂商的瓶颈。ASML已经通过整合EUV光刻机产业链，将其他厂商绑在了自己的战车上，导致其他厂商无法生产。
